“阿密特先生,BSEC將在本週內向全球公開宣佈,研發成功45nm製程的浸沒式光刻機3360i,並向中國專利局和世界專利局同時申請公司發明專利,計劃7月下旬量產,到時會邀請阿密特先生和阿爾特曼先生來公司參觀指

導!”

孫健料到精明的阿密特和阿爾特曼參觀完DSP-100式光刻機後,都會給他打電話。

阿密特是Intel投資部部長,阿爾特曼是AMD投資部部長,兩人的工作核心是統籌公司對外投資、併購及資本運作,爲公司篩選優質項目,把控投資風險,最終實現資產增值與戰略落地。

兩人率領的團隊最後對公司是否採購DSP-100式光刻機提供投資分析報告。

以公司執行總裁爲首的管理層根據投資部提供的投資分析報告制定投資方案,交給董事會開會決定,再由出席股東大會有代表權的股東投票表決。

根據《公司法》規定,公司重大投資決定需要經出席股東會議的股東所持表決權過半數通過,形成決議,董事長簽字,交給執行總裁,負責採購的副總裁交給採購部部長,派人採購。

一條20億美元半導體生產線的投資對任何一家晶圓公司都不是小數目,投資失誤就會造成公司業績下降或虧損,投資者用腳投票,公司股價下跌,最後需要一批人承擔投資失誤責任。

阿密特和阿爾特曼都沒有採購決定權,但兩人負責撰寫的投資分析報告對公司是否採購DSP-100式光刻機有很大的影響。

Intel晶圓公司和AMD晶圓公司採購DSP-100乾式光刻機,新建一條45nm製程半導體生產線,需要在光刻膠類型及塗布方式等方面做作出調整,習慣了浸潤式光刻機生產線的工程師們需要較長的時間才能適應,影響良品

率,不到萬不得已,Intel和AMD晶圓公司不會輕易更換乾式光刻機。

這也是DSP-100乾式光刻機的一大缺陷!

尼康公司也知道BSEC、GCA和ASML都在研發45nm製程浸潤式光刻機,特別是全球第一家研發成功65nm製程浸潤式光刻機的BSEC,研發45nm製程浸潤式光刻機的實力最強!但尼康公司不會想到,3360已被研發成功

一年多,配備升級的磁懸浮式雙工作臺系統,在專業實驗室內經過升級改造,產品性能更加穩定,需要的生產材料早已備齊,隨時可以量產。

全球第一臺45nm製程的DSP-100乾式光刻機在尼康公司誕生,日本半導體企業聯合投資建設全球第一條45nm製程的半導體生產線,率先佔據全球晶圓生產的最高點,引領全球半導體產業的發展,在全球光刻機行業和晶圓

生產行業都產生了巨大的轟動。

孫健沒有料到,鄧國輝和錢富強等院士們也沒有料到。

尼康公司邀請了Intel、AMD、臺積電、聯電、三星等全球晶圓大廠參觀DSP-100乾式光刻機,PGCA和TTFAB也在被邀請之列。

PGCA中方副總經理張洪海和TTFAB中方副總經理李開軍應邀前往日本尼康公司參觀。

孫健從張洪海的電話中得知,DSP-100乾式光刻機沒有相匹配的雙工作臺系統,3500萬美元一臺。

當年制定TWINSCAN NXT:2230的價格時,孫健決定1500萬美元一臺,同尼康公司相比,還是太善良了!

在佔得先機的情況下,尼康公司肯定要大賺一筆,起碼要將這些年的研發經費賺回來。

無可非議!

尼康公司CEO森佳照明也明白,一旦BSEC、GCA和ASML的45nm製程的浸潤式光刻機問世,DSP-100乾式光刻機就沒有競爭優勢了。

“恭喜孫先生,請問貴公司的3360i定價多少?”

阿密特向阿爾特曼打出OK的手勢,兩人原以爲BSEC會晚幾個月研發成功45nm製程浸沒式光刻機,也無所謂,先開工基建,明年再安裝設備。

在GCA和BSEC之間,阿密特和阿爾特曼會選擇GCA光刻機;在BSEC和Nikon之間,他們會選擇BSEC光刻機,這裏面有公司利益考量,還有國家利益在裏面;在國家利益和公司利益之間選擇,他們會選擇公司利益,實現股

東利益最大化。

美國半導體行業都知道,日本爲了打敗美國,重新成爲全球半導體產業的老大,由日本通商產業省牽頭,政府出錢,日本各大科研院所和半導體公司聯合,在國家層面,制定了日本半導體產業長中短期發展規劃,先後成立了

半導體前沿技術聯盟(SELETE)、日本超先進電子技術協會(ASET)、下一代半導體曝光工藝基礎技術開發(MIRAI)和極紫外光刻系統開發協會(EUVA),舉國之力,從1998年就啓動了EUV技術研究項目,希望趕在美國G

CA EUV公司之前,實現EUV光刻技術的商業化。

在EUV LLC聯盟通過兩年的研究,驗證EUV光刻機的技術可行性後,2002年1月,由GCA出資5億美元,成立一家GCAEUV光刻機股份有限責任公司,邀請Intel、AMD、IBM、HP、TI、摩托羅拉、蔡司公司、Cymer、臺

積電和三星等二十多家公司參加,籌資50億美元,共同研發EUV技術。

EUV LLC聯盟中除了GCA、Intel和牽頭的美國能源部以外,還有摩托羅拉、AMD、IBM,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。

美國半導體行業都不願意看到由Nikon和Canon主導的EUV研究走在GCA EUV的前面。

“阿密特先生,3360i的研發成本要高一些,初步定價2000萬美元,阿密特先生和阿爾特曼先生是老朋友,我做主打八五折!”

光刻機是個高投入高收益的行業,誰的技術領先,誰就能拿到高額利潤。

“多謝孫先生!”

阿密特和阿爾特曼就不需要考慮DSP-100乾式光刻機了,打道回府,向董事長彙報。

“原田弘樹先生,多謝熱情款待,我們回去向公司報告,最後由公司決定;原田弘樹先生再見!”

第二天,阿密特向負責接待的常務副總裁原田弘樹告辭。

“阿密特先生再見!”

原田弘樹一臉鬱悶,阿爾特曼一行人剛離開不久;昨天下午,PGCA

和TTFAB的應邀貴賓一起離開了,這次招待會到如今還沒有拿到一臺DSP-100乾式光刻機的訂單和意向,似乎大家都在等待。